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電鍍設(shè)備的加工工藝規(guī)定有什么?

作者: 點(diǎn)擊:1101 發(fā)布時間:2020-11-27

電鍍設(shè)備電鍍時的表層狀況和生產(chǎn)加工要求,選擇在其中適當(dāng)?shù)暮枚鄠€步驟,對零件表層進(jìn)行必不可少的整修生產(chǎn)加工,使零件具有平整光滑的表層,它是能否獲得高品質(zhì)涂層的關(guān)鍵步驟。鍍前處理工藝中,常見的主要設(shè)備有磨、研磨拋光機(jī)、刷銑機(jī)、自動噴砂機(jī)、滾銑機(jī)和各種各樣固定不動槽。電鍍處理是所有生產(chǎn)過程中的重要加工工藝。根據(jù)零件的要求,有針對性選擇某一種或幾種單金屬材料或鋁合金電鍍加工工藝對零件進(jìn)行電鍍或浸鍍等生產(chǎn)加工,以保證耐腐蝕、耐磨損和美觀大方的目的。電鍍設(shè)備處理方式中常見的機(jī)器設(shè)備重要有各種各樣固定不動槽、滾鍍槽、掛具、電動吊籃等。鍍后處理工藝是對零件進(jìn)行打磨拋光、出光、鈍化處理、著色、干燥、密閉式、去氫等工作中,根據(jù)務(wù)必選用在其中一種或多種多樣生產(chǎn)流程使零件符合質(zhì)量要求。鍍后處理工藝普遍機(jī)器設(shè)備重要有磨、研磨拋光機(jī)、各種各樣固定不動槽等。
電鍍設(shè)備的加工工藝要求
1.涂層與板材金屬材料、涂層與涂層正中間,需有優(yōu)質(zhì)的結(jié)合性。
2.涂層應(yīng)結(jié)晶體細(xì)致、平整、薄厚均勻。
3.涂層應(yīng)具有規(guī)定的薄厚和盡量避免的孔隙率。
4.涂層應(yīng)具有規(guī)定的各種指標(biāo)值,如光澤度、強(qiáng)度、導(dǎo)電率等。
5.電鍍時間及電鍍整個過程的溫度,管理決策涂層薄厚的規(guī)格。
6.操作溫度為-10℃~60℃。
7.輸入工作標(biāo)準(zhǔn)電壓為220V±22V或380V±38V。
8.電鍍設(shè)備水凈化設(shè)備很大工作中噪聲應(yīng)不超80dB(A)。
9.空氣濕度(RH)應(yīng)不超95%。
10.源水COD成分為100mg/L~150000Mg/L。


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